买了光刻机就能造芯片吗为什么（芯片为什么需要光刻机）
买了光刻机就能造芯片吗为什么（芯片为什么需要光刻机）
3月3日， 中芯国际官方表述称：公司与ASML公司达成协议，将购入78亿元的晶圆生产设备。 或许对此不少人将感到疑惑，难道他国当地组织低头了？为何要放开封禁政策，让中芯国际购入光刻机呢？具体的原因我们不得而知，也不用深究，但有理由相信这是一个好的开始。随着这一利好消息的传出，中芯国际今日的股价便得到了上涨。
不止 于此，考虑到中芯国际自研技术的尚未完全成熟，大批量的进口光刻设备也是急需的 。当然中芯国际作为一家大企业，自然也有权衡其中的利弊，此举虽然花费颇多。但是在全球芯片消耗量急剧上涨，代工产量不足的情况下，78亿元的光刻设备也将为中芯国际收获大批量的国内外订单。
不过这也不值得盲目的乐观，了解到实际的情况，或许你会有不一样的观点！
据悉，此笔高达78亿元的巨额订单，便是中芯国际近两年的利润，却未能够买入先进制程的光刻设备 。该笔设备只能够用于生产14nm工艺芯片，具体的设备信息尚且不得而知。为何中芯国际不购入更先进制程的机器呢？这主要还是因为封禁政策， 他国组织仅批准了14nm制程工艺设备的购买许可，而对于更为先进的10nm、7nm依旧属于管控状态。
14nm制程工艺相当于什么水平呢？可以说是2016年左右在手机端流行，比如骁龙820、骁龙821，骁龙660，骁龙625，骁龙675等等 。对于安卓手机用户来说，使用一台4、5年前的手机设备，无疑难以满足大多数人现在的日常需求。也就是说这样等级的制程芯片，对于目前的中端、高端智能机而言，是完全被淘汰的。
但是哪怕是对于这样不太先进的设备，中芯国际依旧是花费了大笔金额够得。虽说如此，但 这也并不意味着14nm制程工艺的光刻机一无是处，否则他国组织不会封锁、中芯国际更不会花大价钱买入 。排开相对高端、要求高运行速度的设备，14nm制程工艺还是颇具市场，也就是说利用这批订单，中芯国际能够实现盈利。
目前关于光刻技术突破的捷报屡屡传来，或许不少人对此抱有了一种极其乐观的态度，但是事实并非如此简单。首先毋庸置疑，此项技术是遭遇封锁的， 也就是说，哪怕是掌握了具体的制造技术，在这种大环境下，想要购买到光刻机的相关零部件也绝非是容易的事。 那想要造出大部分的元件，更无可能。
曾有业内工程师这样表述道：“想要制造可以满足现代发展的光刻机，一个零件都需要上十年的时间去不断地打磨完善。”。 据悉ASML光刻机中零部件高达十万个，其零件也是来自于世界各地 ，不谈设计，单说将这些零部件组合起来也是目前难以完成的大任务。
ASML曾公开称：“即使公开图纸，国内也造不出光刻机。”，这并非是空穴来风。 光刻自研，任重而道远，但好在从未停歇，相信有朝一日，光刻机国产化绝非是“梦”！
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1、光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
2、因为芯片远比这小得多，动不动就是nm的，这些最小也就是μm级别，那么到底是什么刻刀能做到这么精细。所以就想到了，用光线在芯片上刻，就是光刻机。
3、Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。形象的来说光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的图案投影到芯片上。
光刻机是制造芯片的基础。
其实，大多数人认为，芯片技术是综合性水平较高的技术，而光刻机就把“尖刀”，刺在心口，芯片是命，光刻机是防护的存在。但是，我国因为光刻机的限制，对于我们来说，没有光刻机，就警惕芯片带来的危机。那么，制造芯片制造难吗？光刻机和芯片有什么关系，为什么没有光刻机就制造不了芯片？
一款芯片成型，应用到设备中，需要经过多个步骤：设计、制造和封装以及测试。设计和制造是芯片的精髓所在，说设计，熟知的高通，苹果等科技公司实都是术语设计类的公司。通过EDA设计，必须提到的是，这款软件是我们芯片的软肋。设计上，华为能够做到符合设计的需求，关键在制造层次。芯片制造的步骤，更易理解芯片制造的困难程度。
将晶圆提炼出来，提炼出来的单晶硅，做成硅锭，再切割成数个圆片，这就是成为晶圆的东西；在晶圆上涂抹光刻胶是制约我们发展的因素。光刻胶，来自于日本和美国两大国家，特别是高端，涂胶显影机只有日本能够制造出来；在晶圆上涂抹光刻胶，通过光刻机的光源，使胶水固化，按照设计好的线路图，没线路图，晶圆固化固化线路图。遗憾的是，美国光源以及德国镜头组成了ASML的光刻机；蚀刻，我国蚀刻发展迅速。需要溶解多余的涂层。光刻胶已经固化，必须知道不需要的涂层也已经消失的痕迹；进入蚀刻，溶解不需的涂层，留下光刻，形成凹槽。注入离子元素，改变导电特性。
芯片的步骤中，缺乏光刻机。包括EDA相关的设计软件；日本美国的光刻胶，涂胶显影机，光刻机，以及离子注入机都是关键所在。
