上海微电子公司是中国最厉㝘的光刻机公司。在我国的光刻机制造领域,它打破了零的记录,成为了唯一一家制造光刻机公司。上海微电子公司成立于2002年,如今上海微电子公司拥有1000多名优秀人才,在国内占据了80%以上的市场份额。在我们国家的半导体产业发展当中,上海微电子公司起到了极其重要的作用。
中国光刻机最多的城市
江苏无锡。光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
生产集成电路的简要步骤:
利用模版去除晶圆表面的保护膜。
将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。
其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。
一片晶圆可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:
模版和晶圆大小一样,模版不动。
模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。
其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流
上海微电子装备股份有限公司,在国内占据了百分之八十的市场份额,到目前为止该公司已在微电子制造相关领域申请了2400余项专利,称得上是国内的光刻机巨头了。
光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。
光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”,该领域的龙头老大是荷兰ASML,并已经垄断了高端光刻机市场。荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元,而且只有ASML能够生产。
相比之下,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中,性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米,正因如此,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。