铟的最新用途有哪些（铟主要用途）

镀铟为什么要静电喷涂

直接喷涂会发生化学反应。镀铟于空气接触会发生剧烈燃烧反应，所以需要在隔离间进行静电喷涂。铟是一种耐腐蚀的、白色的稀有金属，硬度很低(HV=1.2MPa)，熔点低(156)。铟的主要用途是电沉积在铅。

靶材的作用和用途?

1、℡☎联系：电子领域

在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是最苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有更好的℡☎联系：观结构。

2、显示器用

平面显示器（FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场，亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的iTO靶材有两种．一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结，一种是采用铟锡合金靶材。

3、存储用

在储存技术方面，高密度、大容量硬盘的发展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的TbFeCo合金靶材还在进一步发展，用它制造的磁光盘具有存储容量大，寿命长，可反复无接触擦写的特点。

扩展资料：

靶材的发展：

各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新型电子元器件发展的需求。

例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线：在平面显示器产业中，各种显示技术(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步发展，有的已经用于电脑及计算机的显示器制造。

在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新这些都对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求，需求数量也逐年增加。

参考资料来源：百度百科—靶材

石墨铟的危害有哪些特点

有轻℡☎联系：毒性。石墨铟的危害特点是重金属，有轻℡☎联系：毒性。铟，是一种银白色并略带淡蓝色的金属，元素符号In，质地非常软，能用指甲刻痕。可塑性强，有延展性，可压成片。金属铟主要用于制造低熔合金、轴承合金、半导体、电光源等的原料。

铟的用途

首先，因为铟的光渗透性和导电性强，所以它主要用于生产ITO靶材，其可以用于生产液晶显示器和平板屏幕。其次，铟也可用作高速发动机轴承、酸碱环境及海事仪表、装饰与纪念品涂层等，因为铟及铟基合金具有耐磨、耐腐蚀的特性，而且其机械性能也很好。

然后，铟也可以与金、钯、银、铜等组成合金，用来制作假牙和装饰品。最后，铟还可以在医学上使用，比如医学上，肝、脾、骨髓扫描时使用的铟胶体。

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