光刻机品牌主要有:ASML,尼康,佳能,欧泰克,上海℡☎联系:电子装备,SUSS,ABM, Inc.
光刻机唯一上市公司是张江高科公司,光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:
1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几℡☎联系:米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。
2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数℡☎联系:米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
拓展资料:
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
当然不同,激光源,激光透镜,激光光路是决定价格的主要因素.asml是世界上最先进的光刻机公司,先进的型号可制备32nm及以下的制程,是你说的淘宝上℡☎联系:米级不可同日而语的.
是飞机与自行车技术含量的对比.
光刻机国产排名第一的是上海℡☎联系:电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司,分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海℡☎联系:电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说,国内仅有一家能够制造光刻机的公司,既上海℡☎联系:电子,所以上海℡☎联系:电子排名第一。
上海℡☎联系:电子公司简介:
上海℡☎联系:电子是半导体行业的上市公司,公司坐落于张江高科技园区。
公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发,生产销售与服务,IC制造与先进封装,MEMS ,TSV/3D,TFT -OLED等制造领域。
公司致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候,全方位,全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
一、晶瑞股份
核心逻辑:进口替代助力业绩增长,国产光刻胶核心标的。
晶瑞股份是国内技术领先的℡☎联系:电子化学品龙头,产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。
二、上海新阳
核心逻辑:半导体业务驱动21Q1经营业绩高增长,购买光刻机布局高端光刻胶项目。
上海新阳为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻℡☎联系:材料技术有限责任公司进行193nm(ArF)干法光刻胶研发及产业化项目。
三、南大光电
核心逻辑:ArF光刻胶认证通过,国产材料持续推进。
南大光电主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司设立光刻胶事业部,并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”,全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施
四、扬帆新材
公司是全球光引发剂重要供应商,公司主要的光引发剂品种众多,其中部分产品可以用于光刻胶生产领域。
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