光刻机国产排名第一的是上海℡☎联系:电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司,分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海℡☎联系:电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说,国内仅有一家能够制造光刻机的公司,既上海℡☎联系:电子,所以上海℡☎联系:电子排名第一。
上海℡☎联系:电子公司简介:
上海℡☎联系:电子是半导体行业的上市公司,公司坐落于张江高科技园区。
公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发,生产销售与服务,IC制造与先进封装,MEMS ,TSV/3D,TFT -OLED等制造领域。
公司致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候,全方位,全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
上海℡☎联系:电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧,估计是中国最先进的了。
SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备。此外,该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术,并配合其他分辨率增强技术,能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
本人亲自用过,号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的。6寸、8寸、12寸都能生产,人际界面良好,效率还算可以,跟国外同类型机器相比故障率稍高。
光刻机唯一上市公司是张江高科公司,光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:
1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几℡☎联系:米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。
2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数℡☎联系:米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
拓展资料:
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。
上海℡☎联系:电子公司是中国最厉㝘的光刻机公司。在我国的光刻机制造领域,它打破了零的记录,成为了唯一一家制造光刻机公司。上海℡☎联系:电子公司成立于2002年,如今上海℡☎联系:电子公司拥有1000多名优秀人才,在国内占据了80%以上的市场份额。在我们国家的半导体产业发展当中,上海℡☎联系:电子公司起到了极其重要的作用。
中国光刻机现在达到了22纳米。在上海℡☎联系:电子技术取得突破之前,我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。
这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻,在突破关键领域以后,更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁,成功研制22nm光刻机,中国芯正在逐渐崛起。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几℡☎联系:米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。
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