中国的光刻机之所以会走向落后,是因为经济发展因素、海外企业竞争力过强以及欧美国家对中国进行了技术封锁。
由于华为遭美国封杀之后,华为的芯片供应也出现了很多的问题,由于芯片的制造离不开光刻机,所以光刻机就成为了网友非常关注的东西,只不过令大家没有想到的是,中国曾在光刻机领域达到过世界先进水平。
一、经济发展的原因,导致中国在光刻机领域处于落后地位。
虽然中国当时在光刻机领域拥有着不错的技术水平,但是大部分企业在光刻机领域都无法赚得收入和利润,这导致很多企业逐渐放弃了光刻机的生产和研发,正是由于很多企业不看好光刻机的生产,所以才导致中国在光刻机领域出现了大幅度落后的情况。
二、国外企业的技术优势,使得中国的光刻机处于落后位置。
由于国外企业在光刻机领域,储备了大量的技术专利,这使得国外企业在进行光刻机生产研发时,总能够最大程度降低成本,由于国外生产的光刻机在价格上,远低于中国的国产光刻机,这使得很多芯片生产商都开始选择国外的光刻机,正是由于国外的光刻机生产企业展现出了极强的竞争力,这导致中国的光刻机领域受到了极大的冲击。
三、欧美国家对于中国的技术封锁,使得中国无法提升光刻机的技术。
虽然中国曾在光刻机领域取得了不小的优势,但是如果一直无法和国际接轨的话,那么中国在光刻机领域,也不可能取得太大的进步,再加上欧美国家对中国在光刻机领域进行了强力的技术封锁,这导致中国无法在光刻机领域吸收国外的经验和技术,由于缺少国外技术的帮助,中国在光刻机领域逐渐走向了落后。
一台光刻机意味着在芯片制造领域的技术优势,意味着技术的关键,可以说没有这个东西就造不出来高精度的芯片,一台真正高端的光刻机,由10万多个零件组成,集合了全球5000多家顶尖的科技公司的技术结晶,可以说它本身的技术凝结就是几乎人类科技的巅峰。
一台高端的光刻机,它能制造出足够高精度的芯片芯片,这种东西就可以理解为人类智慧的巅峰,因为芯片它某种程度上就是模拟一个人的大脑,我们的大脑拥有很强的信息处理能力,它能够让我们正常的去处理生活中几乎所有的信息,但是凭借我们现有的技术,不可能模拟出完整的大脑,所以芯片它具有人脑的某些功能,比如快速的处理信息精度越高的芯片,越先进的芯片,处理信息的能力越强,性能就越好,但是他要求的精度就越高。
光刻机不是那么好制造的,可以说在美国断供华为之前,我们国内所掌握的自主能够造出来的最高的技术是14纳米这个技术升级个两代升级个三代可能能够满足我们基本的使用需求,高端的到5纳米左右的这个程度的芯片,根本不可能,就算是通过一些其他的技术达到了所谓的进度,但是成本能不能控制住,能不能达到大规模的批量生产,故障率又是如何的,这个都不能保证,肯定不止我们一个考虑过,不通过光刻机制造出更高精度的芯片,但是真正有成功的吗?
显然我们需要更高精度的光刻机,因为国内的手机市场是非常大的市场,手机芯片这种东西一直被别人控制着,显然是不利于国内手机厂商的健康发展的,但是研究这个东西不是一朝一夕的事情,就算是舍得前集合优秀的人才集合,更多的资源也不能保证在短期的就能造得出来,因为国外现在对这种高端的技术一直都处在封锁垄断的状态。
因为这个制作起来非常的困难,而且制作起来的时间也是非常的长。
在光刻机的制造过程中,对我们来说最困难的一步就是西方国家对我们的技术封锁,正是因为这些技术封锁,我们国家目前还不足以造出光刻机。
1、 光刻机制造难度。
ASML目前是荷兰光刻技术的领导者,占据了80%的全球市场份额。只有ASML能生产出最先进的EUV光刻技术。光刻机的技术门槛很高,这是人类智慧的产物。ASML光刻机90%的零件来自外部采购,包括德国的光学设备、美国的计量设备和光源设备。ASM还有一个规定,就是只有投资ASML,才能获得第一供应权,也就是说,我们想买光刻机,就必须先去投资,ASML在这种合作模式得到了大量的资助。英特尔、三星、台积电在ASML都持有的有相当数量的股份。
2、 我国的光刻机发展。
中国的光刻机制造商是上海℡☎联系:电子,主要专注于低端市场,生产90nm及以下工艺,与7Nm ASML工艺相比还有很大差距。虽然上海℡☎联系:电子并不具备在高水平光刻市场取得突破性进展的能力,但在低成本光刻市场上却从无到有地占据了垄断地位,目前上海℡☎联系:电子正在向高端光刻机发展。据说它突破了24nm工艺的关键技术,在不久的将来我们就能看到它了。
3、 未来中国能制造光刻机吗?
未来我们国家一定会有光刻机,就像当时的原子弹和氢弹一样,其他国家对我们技术封锁,我们用算盘来计算数字,最终是成功造出来了氢弹和原子弹,现在我们国家的技术要比以前好太多了,在这种情况下,我们肯定能造出来光刻机,打破西方国家的技术封锁。
总结:
我们国家的光刻机正在路上,如果速度够快,2025年之前我们就能把光刻机给造出来。
有图纸光刻机这种东西也不是说造就能造出来的,因为它不是一家公司产物,可以说一台高端的光刻机,它集合了全球几千家顶尖的科技公司的结晶,上万个精细的零件的配合才能够造出这样一台机器,说一台高端的光刻机是人类文明智慧的巅峰也不为过。
这种东西它主要作用就是个芯片,芯片才多大呀,你想一想你手机有多大,芯片只是占很小很小的一部分,但是这很小很小的一部分,他又能够处理你手机上的所有信息,无论是系统的控制亮度的调节,还是说声音大小全部都指望这样一个核心的东西呢,没有这个东西手机的很多功能都会缺失,但是它体积就那么小,它是非常精细的东西,这个东西可以说是除了人的大脑之外,手机的一个大脑。
他自己虽然不能主动地进行思考,但是它可以根据你的指令作出正式的反应,光刻机的发展最早的时候还没有那么难,但是随着进度的不断提升,现在到了5纳米这个级别的我们根本就做不出来,国内就是说现在最先进的就是14左右的,差了,七中好几代,三代可能都不止了,要说国内就不想研究出来的吗?谁都知道把这个东西关键技术攻克了,那利润空间绝对是很大很大的,国内的市场也非常的高,同样的价钱同样的性能国产的厂商为什么不用国内的呢?只不过是因为国内没有不是给钱就能研究出来了。
图纸这个东西只是一个样例而已,就是说大致方向是这样的那么复杂的一个东西,你觉得一张图纸就能包括吗?不是建房子那么简单,不是说把一些砖堆砌到一块,你这个房子就算建成了那个东西,你就算是用三维立体图去展示的话,也是一个非常复杂的模型,绝对不是一个图纸就能搞定的,而且核心的技术国外是绝对不会外泄的,这是他们最核心的东西,多少钱都不可能的,所以自力更生还是得靠自己。
9月16日,国新办举行新闻发布会,介绍中国科学院“率先行动”计划第一阶段实施进展有关情况。
在这个发布会上,中科院主要领导强调,要把美国卡脖子的清单变成我们科研任务清单进行布局,比如航空轮胎、轴承钢、光刻机;一些关键核心技术攻关成立领导小组,要求每个承担重大任务的人要签署责任状;在一些最关注的重大的领域,集中全院的力量来做。这就是中科院签订“军令状”的来由,其中光刻机受到了广泛的关注。
众所周知的原因,现在在芯片行业我们受到了美国等西方国家的封锁,造成了我国一些制造企业的困难局面,比如华为。
制造芯片最重要的设备就是光刻机。其实我国也能生产制造光刻机,也在很早的时候就开始研究,在这方面当时也和世界水平比较接近,但是光刻机的前期研究需要投入大量的资金,而且在“造不如买,买不如租”思维影响下,逐渐对于科研不太重视,光刻机研制近乎于停滞,就像当年的“运10”飞机的研制过程一样。
而当我们开始重视芯片产业,国家也投入巨资准备大力支持研发,却出现了“汉芯”造假事件,2003年上海交大℡☎联系:电子学院院长陈进从美国买回芯片,作为自主研发成果,消耗大量社会资源,影响之恶劣可谓空前!以至于很长一段时间,科研圈谈芯色变,严重干扰了芯片行业的正常发展。
目前上海℡☎联系:电子装备有限公司能量产的光刻机是65nm制程。2019年,由中国科学院光电技术研究所承担的超分辨光刻装备项目在成都通过验收,完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制,最高线宽分辨力达到22nm。
这22nm制程的光刻机技术,应该很快就会能够量产,但是与世界主流的先进技术还是相差甚远,而且22nm的芯片,只能应用到一些不太复杂的科技产品上,比如老年手机等等。所以现在我国在光刻机这块是落后于世界先进水平好几代的。
当前光刻机技术最好的是荷兰的ASML公司,已经能够量产5nm制程的光刻机,甚至都拥有了3nm的技术。
可是因为美国的阻挠,我们根本就买不到ASML的产品,中芯国际在去年前曾经抢购到一台7nm的光刻机,钱都已经付了好多个亿,到现在都还没有收到货,可能以后也就收不到了。
硅原料、芯片设计、晶圆加工、封测,以及相关的半导体设备,绝大部分领域我国还是处于“任重而道远”的状态。
但我感觉这次不一样了,制造芯片的设备光刻机已经提升到国家层面,相关部门还立下了“军令状”,这与当年研究原子弹的情形何其相似。
我不相信先进光刻机的难度要大于原子弹,我们当初是一穷二白,完全是从零开始,不也以飞快的速度制造出来了?何况对于光刻机生产我国还是有一些基础的,只是现在还没有达到国际先进水平而已,这比当初制造原子弹的情况要好很多。
1nm就是一些原子了,现有的光刻机技术原理是有天花板的,我相信在我们的科研单位在现有理论下,应该能够很快追上世界水平,但不应仅仅局限在已有的理论中,还要展开新的理论研究,争取尽快生产出更先进的光刻机,使我们的芯片不再受到制约。
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