14nm光刻机（14nm光刻机可以加工多少nm的芯片）

2022中芯国际14nm光刻机哪里来的

来源是荷兰阿斯麦尔公司的光刻机。

中芯国际14nm光刻机的来源是荷兰阿斯麦尔公司。准确点说并不是14纳米，而是28纳米光刻机，14纳米是中芯国际的量产芯片制程，而不是光刻机的精度。作为duv光刻机最高也就是28/22纳米精度。荷兰阿斯麦尔光刻机目前几乎处于全球垄断地位，市场占有率高于90%，中芯国际的光刻机也是荷兰阿斯麦尔公司的。

国产14nm光刻机什么时候量产

2023年量产。

6月22日，中国电子信息产业发展研究所所长温晓军在接受采访时表示，国产14nm芯片明年年底可以的实现量产，国产芯片已经迎来了最好的时刻。

14nm生产线在半导体行业中非常关键，数据显示，14nm及以上制程可以满足目前70%半导体制造工艺要求。值得一提的是，我国自研台式电脑CPU就是基于14nm工艺。而且，相关部门为中国半导体产业制定的发展目标是2025年实现70%芯片自给自足。

光刻机特点

严格地说并没有所谓的几纳米几纳米光刻机，这种说法一般来说只是代表这种光刻机可以实现几纳米工艺。其实中高端光刻机主要分2种，DUV光刻机和EUV光刻机。

那么光源作为光刻机的核心部件之一，随着人类科技的不断进步，其波长也在不断缩小。从436nm、365nm的近紫外光，到248nm、193nm的深紫外光，也就是DUV光刻机使用的光源，发展到现在，最先进的EUV光刻机采用的已经是13.5nm极紫外光。

14nm芯片需要多高精度光刻机

使用90nm国产光刻机。

光刻机又称掩模对准曝光机，是芯片加工过程中用于去除“晶圆表面涂抹的光刻胶”的一种重要设备。目前市场上的主流光刻机分为两大类，一是EUV光刻机、二是DUV光刻机，前者目前是最先进的光刻机，能制造5nm的高端芯片，也只有荷兰的ASML才掌握。

上海℡☎联系：电生产的光刻机，目前处于90nm水平。虽然较ASML仍有较大的差距，但纵观国内，比起国内其他半导体公司仍停留在200nm工艺，上海℡☎联系：电绝对是行业翘楚。

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