上周,已经在港交所递交IPO申请的矿机制造商嘉楠耘智召开发布会,宣称实现全球首个7nm(纳米)芯片成功量产。对于倍感“缺芯之痛”的国人来说,这个消息当然让人振奋。本周甫一开盘,A股芯片概念板块集体大涨,显示资本市场也对这一消息予以正面回应。
“缺芯之痛”,不但是中国半导体行业之痛,也是民族产业之痛。前几个月,美国商务部宣布对中兴通讯采取出口管制措施,引发了全民对国产芯片的关注。
数据统计,中国集成电路产品连续多年每年进口额超过2000亿美元,一旦缺“芯”,可以想象会面临什么困难。全球首个7nm芯片成功量产,是国内专用芯片领域的一次突破和领先。
7nm芯片成功量产对于芯片行业有什么意义呢?无论是设计还是加工工艺上,7nm芯片都代表着先进的技术,能让终端能耗更低、速度更快。浙江省半导体行业协会秘书长陈光磊表示:“一家公司设计开发出7nm集成电路还是能够体现它的技术水平。一般情况下,7nm芯片只有大牌企业才能设计生产,现在浙江的小企业也能做,对芯片行业有一定的意义。”
对于7nm芯片,苹果要到8月才能量产,高通、联发科等一线IC设计大厂则要到9月或10月,而华为及旗下海思等国内头部企业也将在其后陆续实现量产。
但据嘉楠耘智高管介绍,该款7nm芯片虽然由嘉楠耘智负责设计和销售,却是由全球最大的代工芯片制造商台湾积体电路制造股份有限公司代工生产。也就是说,我们目前虽然能设计、研发7nm芯片,但大陆企业无法自己量产,还得由台积电代工生产。这是为什么呢?因为光刻机精度仍是大陆芯片制造行业的卡脖子环节。
光刻机是制约集成电路技术发展的重中之重,核心技术中的核心,被冠以“工业皇冠上的明珠”的称号。目前,世界上80%的光刻机市场被荷兰公司占据,高端光刻机也被其垄断。中国在努力追赶,但仍与国外存在技术代差。
本次7nm芯片只是用于区块链计算机“挖矿”,在手机、矿机领域,“中国芯”已占有一席之地。嘉楠耘智量产的7nm芯片有专门的用途,即用在由其自主开发的区块链超级计算设备“阿瓦隆”A9上,该设备在区块链网络中进行计算获取数字资产“比特币”。
虽然中国的芯片产业整体上还比较落后,但这并不妨碍我们在一些具体的应用场景中造出自己的芯片。在区块链技术火爆的今天,矿机专用的芯片基本上已经被中国的产品所垄断。
而在传统芯片领域已经被巨头所垄断的现实条件下,一些面向专门应用领域的芯片已经成为中国未来实现弯道超车的重点。比如除了手机芯片、矿机芯片,还有专门用于人工智能计算的AI芯片等等。
但我们也应当理性、客观地认识到,在难度更大的通用芯片领域,我们依旧存在着较大的短板,仍然需要更多踏踏实实的努力。我们要清醒认识到国产芯片行业的整体差距。正如陈光磊所说,“像苹果、华为、高通等行业巨头生产的通用芯片要满足综合性能,开发难度更大、投入成本更高、研发周期更长。专用芯片的性能要求则更加简化,设计与生产相对而言会简单一些。”
全球首个7nm芯片成功量产,当然是中国高端制造方面的突破,也是芯片领域的突破,说明中国芯片在手机、矿机等专用芯片领域有了实现弯道超车的可能性。
此外)吉利也传7纳米突破的喜讯。
众所周知,在芯片半导体领域,除了芯片是至关重要的,还有一些设备的重要性比起芯片来,也是丝毫不差的,若是没有这些设备,芯片的制造那就无法进行。
在此之前,我国之所以无法提高芯片制造的产能和技术水平,那就是因为这些设备都是为国外的企业垄断了,限制了我国的芯片半导体产业的发展。
为了改变这一现状,我国的,芯片半导体企业、科研机构与国内高校三方联手,倾力合作,立志要将生产制造芯片的所有有关的设备都研究开发出来,势必要让我国的芯片半导体企业摆脱国外的制约,打破国外企业的垄断。
正是在这种大环境下,那些被国外垄断的设备技术接连不断地传来破冰的喜讯。光刻机领域的突破,更是令国内的芯片半导体企业兴奋不已,要知道在光刻机领域,一直是由荷兰的阿斯麦公司所垄断,实质是由美国所掌控。其公司旗下的EUV光刻机是当今全球最为先进的光刻机。
如今,我国的上海℡☎联系:电子将光刻机实现了国产化,虽然只是28nm光刻机,比起荷兰的7nmEUV光刻机有些差距,但也是极其良好的开端,以后自然会实现高端光刻机的国产化。
此外,还有一些设备迎来了重大突破,比如,中国电科的28nm全谱系离子注入机,南大光电的Krf高端光刻胶,这些和上海℡☎联系:电子的光刻机一般,都是在28nm的精度水准。不过此时仍是28nm及其以上芯片的主流市场,所以说这些中低端设备的突破是有着极大的意义和作用的。
在这些中低端设备频繁传来喜讯之后,高端的设备也是不甘人后,同样传来了喜讯。近日,至纯 科技 公司正式官宣,14nm与7nm的湿法设备将于明年正式落地,并且该公司已经决定,将湿法设备供应给华为和中芯国际,这无疑将会给华为和中芯国际带来巨大的好处。
值得一提的是,中℡☎联系:半导体也实现了高端设备的突破,其研制的5nm刻蚀机已经实现国产化,并且总体性能不比国外的差。
在设备领域的不断破冰,给国人带来了极大的鼓舞,让国人相信我国的芯片半导体产业一定会达到乃至超越国际先进水平。
为了更好地集中优势资源,优化资源利用,我国在上海成立了总投资高达5000亿的东方芯港,从材料、技术以及设备等多个细分领域入手,从而促进中国芯的快速发展。
据悉,上海已经开始在3nm等先进半导体领域加大研究投入,给相关的先进芯片设备制造以及先进芯片研发的企业更过的政策扶持。这就吸引了华为、中芯国际、上海℡☎联系:电子以及中℡☎联系:半导体等国内顶尖 科技 类企业竞相入驻。
相信在国家的牵头下,得到更多政策扶持国内芯片半导体企业,将会更加注重于先进芯片的研究开发以及先进设备的研制。
如今中国的中低端产能已经达到了一个前所未有的高度,所以不用担心此时加大力度进军高端芯片领域而忽视中低端芯片领域。日产10亿颗以及单月399亿颗芯片产能,满足目前国内的芯片需求已是绰绰有余。
此时的中国已经完全不必担心中低端芯片产能不足了,所以自然就将重心慢慢向高端领域转移,以求缩短与国际先进水平的差距。
看到中国如此不遗余力地进行先进芯片以及先进设备研究开发,台积电的心算是彻底的慌了,甚至已经想到数年之后,中国实现了芯片的自给自足,无论低、中、高三种级别的芯片,还是各种生产制造芯片设备,都是具备齐全。
台积电作为全球最先进的芯片代工企业,占据着全球将近一半的市场份额,除了美国的订单外,基本上来自中国,若是中国真的实现了完全的自给自足,那么台积电自然要损失很大。
这是中国在经历制裁后,坚定不移要走的道路,谁也无法阻拦,如今的中国芯已经在中低端领域稳住根基,自然要全力占据高端领域。对于中国芯片领域的强势崛起,台积电始料未及,更是无法阻挡。
第一,目前全球最先进的光刻机,已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。
而ASML也不是自己一家就能够完成,而是国际合作才能实现的。其中,制造光源的设备来自美国公司;镜片,则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。
第二,中国进口最先进的光刻机,是7nm。
2018年,中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机,当时预交了1.2亿美元的定金。请注意,当时这台机器还没有交付,而是下订单。
但国内市场上,其实已经有7nm光刻机。在2018年12月,SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。
第三,目前国产最先进的光刻机,应该是22nm。
根据媒体报道,在2018年11月29日,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米。
请注意该报道的标题:“重大突破,国产22纳米光刻机通过验收。”
也就是22nm的光刻机,已经是重大突破。
22nm的光刻机,关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权。”
有关报道中的“全新的技术”,也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下,实现的这一次技术突破
中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。
华为麒麟受制于人,中芯国际不堪大用,澎湃芯片久不见进展,虎愤芯片勉强能用。
实用更是有很远的路要走。
大家放平心态。
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