中国自产的光刻机有哪些品牌呢（中国最大的光刻机生产厂家）
中国自产的光刻机有哪些品牌呢（中国最大的光刻机生产厂家）
成都兴林真空设备有限公司主营业务是光刻机生产加工，光刻机主要用途来自以下场景：
（1）光刻机用于大学研发、实验室设备。
（2）工厂用于做空空导弹跟踪器、发光二极管、传感器、手机芯片、霍尔元件
A、发光二极管：用于在十字路口红绿灯、公交车、汽车灯用在每到一站的显示。
B、传感器：用于高铁到站传输信号准确定位。
C、手机芯片：用在手机卡上，还有手机显示屏面。
D、霍尔元件：用于冰箱开灯亮、关灯熄灭。
E、卫星：卫星上面用于卫星角度的调整。
主要合作院校和单位有：
中国科学院半导体研究所、中国工程物理研究所
清华大学、北京大学、北京理工大学、复旦大学
南开大学、福州大学、浙江大学、武汉大学
安徽大学、华东师范大学、东北大学、厦门理工学院
中国核动研究设计院、重庆技术职工学院、成都理工大学
贵州大学、昆明理工大学、华南师范大学、青岛航天半导体研究所
常州银河电器有限公司、浙江正邦电子股份有限公司、江苏一光仪器有限公司
江苏车晨电子科技有限公司、上海航天控制技术研究所、上海空间研究中心
光刻机唯一上市公司是张江高科公司，光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：
1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几℡☎联系：米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数℡☎联系：米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
拓展资料：
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
掩模对准器的制造商是ASML。自1984年以来，ASML的光刻解决方案一直是半导体行业的创新领导者，并在如此小的规模内实现了巨大的飞跃。结合硬件和软件，它提供了在硅上大规模生产图案的整体方法。在全球16个国家和地区，有60家ASML公司的主要产品是光刻机，这是生产大规模集成电路的核心设备。在国际同类产品中占有90%的市场份额，14nm工艺以下市场份额***。扩展信息:ASML为半导体制造商提供掩模对准器和相关服务。TWINSCAN系列是世界上最精确、最多产、应用最广泛的高端光刻模型。世界上大多数半导体制造商从ASML购买TWINSCAN型号，如英特尔、三星、海力士、TSMC、SMIC等。
光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。
光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，该领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经垄断了高端光刻机市场。荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。
相比之下，中国最好的光刻机厂商上海℡☎联系：电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
