我国的光刻机处于世界的先进水平,但没有达到顶尖水平:
我国的光刻机发展已经近到了28纳米的光刻机,可以满足日常的射频芯片,蓝牙芯片以及其他电器中的一些芯片的要求和标准。但是相较于芬兰等欧美国家的光刻机芯片,已经达到了个位数的纳米。想要在此基础之上超越欧美国家,进入光刻机的顶尖水平,还需要数10年的时间研究和发展,这就好像在一根头发丝上的1/10000处,雕刻一栋楼房的难度是差不多的。
光刻机在我国之所以如此重要,是因为它在芯片的研究和生产方面占有非常重要的地位。我国的大部分芯片研究都离不开光刻机的技术支持,例如手机芯片,一些重工业行业,机器的芯片,还有很多高新科技产业的核心技术,都需要用光刻机来研发芯片,没有了光刻机,我国的芯片研究就会陷入停滞的发展状态,因此我国的大多数光刻机主要依赖于进口,只有少数的光刻机用在一些不太重要的科技岗位上。
只要光刻机达到顶尖水平,我国的芯片研究就会得到一个质的突破。例如汽车芯片的研究,在我国除了自身的发展以外,大多数也依靠进口来完成汽车的整体生产过程,当光刻机的技术达到了顶尖水平以后,我国将不会再依赖外国的汽车芯片,拥有自主研发的中国芯片,安装在中国生产的汽车上。一方面会增加我国在汽车生产上边的独立性,另一方面会减少对国外光刻机的依赖造成他国对我国的贸易制裁影响。
总而言之,光刻机的技术非常重要,但难度也非常大,有专家预计在未来的十年到20年中,我国的光刻机技术可能会得到质的突破。
当地时间8月6日,华为孟晚舟案已经结束引渡的“程序滥用”分支辩论,其实无论怎么样,只要华为不低头,放弃在5G方面的领先地位,美国就不会善罢甘休,我相信任正非先生也有这个准备,肯定会在别的方面有打算。
美国在5G方面对中国的打压,已经无所不用其极,前些时日,组织荷兰阿斯麦(AMSL)公司向中国出口EUV光刻机,也就是说,美国已经在两个方面对中国的5G进行打压,一是通过扣押孟晚舟来威胁华为放弃5G技术或者交出相关资料。另一方面,通过阻止中国获得加工工具,阻止中国在芯片制造技术上的进步。
科技 是解放和发展生产力,创造价值的极其重要的手段,甚至已经能引领未来的经济活动。为了利益,美国已经不再遮掩,连遮羞布都不要了。
5G技术咱们不多谈,聊一下光刻机到底是什么?
首先 了解一下什么是芯片?
芯片是一种℡☎联系:型的集成电路(integrated circuit)。就是在半导体晶片上把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连在一起。
芯片很小,要是把元件做得很小然后组装在晶片上,℡☎联系:操作难度太大。因此,现在芯片使用的都是光刻工艺,是一种光学、化学工艺领域的技术。 光刻工艺包括硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。其中,如何精准曝光,关系到芯片刻蚀精确度,即关系到芯片的成功率。
芯片制作曝光需要紫外光源。而要做到纳米级的控制,需要极紫外光(EUV)。因此,现在芯片制作加工需要的光刻机,也叫极紫外光刻机(简称EUV)。
ASML是世界上最优秀的光刻机制造商,其光刻机精度最高能满足3nm芯片的生产需要,及其先进。这使得它几乎占据全球整个高端光刻机制造市场。
十四五规划中,国家下决心解决卡脖子技术,因此中国也在光刻机制造领域奋力追赶。目前从相关报道来看,中国武汉光电中心的研究已经突破9nm光刻技术,跟最高水平仍有较大的差距,不过由于是国家层面制定了战略规划,集中力量干这件大事,因此追上和超过应该是绝对有信心的。
如果光刻机我们能够独立制造出来,那我们国家在高端技术上就有了一个很大的突破,不必担心西方国家对光刻机的相关技术进行封锁了。
01、光刻机只有荷兰能制造。
顶级的光刻机目前只有荷兰能够制造出来,其他国家都制造不出来,而且荷兰想要制造一个光刻机,也是很困难的一件事情,需要从全球各地购买零件,然后再利用自己的技术组装起来,因为光刻机对一些零件的精度要求很高,而这部分只有美国才能制造出来,只能是从美国进口,再加上美国本身在欧洲就有很大的话语权,所以,美国也算是把握着光刻机的命脉,美国说不让卖给谁,荷兰真的就不敢卖。前段时间美国干的事情我们应该都清楚,因为很多芯片制造厂商都要用到美国的零件,所以,美国直接让所有使用自己零件的厂商,禁止出售芯片给我们国家的某个公司,这件事情一出,真的是让一些人和公司感受到了威胁。
02、28nm的光刻机我们国家已经可以制造出来了。
在前段时间,我们国家的光刻机已经从90nm买入28nm了,这真的是很大的一个进步,对美国和一些西方国家来说,这就是一个坏消息了,他们最不想看到的就是我们国家科技发展起来。
在我们国家28nm光刻机研制出来以后,荷兰开始愿意降价卖给我们光刻机了,为什么?原因就是我们研究出来了光刻机,它们开始慌了!它们在降价后卖入可以争夺国内市场,如果你是一个高精尖技术企业,你是会选择5nm的光刻机还是28nm的光刻机?肯定是5nm的,一旦做出这样选择的企业多了, 那研制出来28nm光刻机的企业怎么挣钱?直接就被打趴下了,我们国家好不容易发展起来的科技,再一次被扼杀在摇篮中。
03、科技是一个国家兴旺发达的动力。
一个国家想要持续不断的发展下去,那就需要强大科技实力的支撑,如果没有强大的科技实力,是没有办法在世界上保持长久的竞争力的。在19世纪的中国,没有经历第一次工业革命,也没有经历第二次工业革命,但是西方国家在经历这两次工业革命后,有了一定的科技实力,蒸汽机、交通运输、电力都在发展了,而清政府呢?什么都没有,还是在用煤油灯,还是在一个皇权至上的时代,人家开着蒸汽机做动力的军舰过来了,我们还在用木船去和他们硬碰硬,我们不输谁输?正是经历了这个黑暗的时期,我们才更应该懂得科技对国家的影响。
总结:
我觉得我们可以买荷兰的光刻机,它降价卖了,为什么不买?但是买了之后,我们也不能忘记自己去研制光刻机,不能让别人握住自己的命脉。光刻机实现国产,是我们科技上一个极大的进步,已经超过世界上80%、90% 的国家了,但是我们还要更进一步,去做最顶尖的技术,站在科技金字塔的顶端!
光刻机到底是什么高科技机器?为什么总是重金难求?这台机器到底有什么重要的作用呢?想要了解这些,我们就要从光刻机的生产制造开始说起了。
说起来,大众对于光刻机多少会有一些印象和了解。自从中兴和华为受到美国的打压之后,我国的手机芯片发展也就被卡了脖子。没了芯片,自然也就发展不了手机业务和通讯业务。而光刻机,就是在芯片制造过程中尤为重要的核心。
芯片的制造可不是想象中那么简单的。芯片的计量单位都是以纳米为单位的。也就是说,芯片的制造对于精度的要求太高了,只有光刻机能够做到。目前来看,只有荷兰高科技企业ASML可以生产出EUV光刻机,所以“物以稀为贵”,这项技术的价格就肯定会高的离谱。
加上荷兰等国家的知识产权保护意识和专利意识,他早就已经申请了相关的专利,核心技术自然也就是秘密了。对于其他的国家就只能是可望而不可及了。
“吃一堑长一智”,在被技术封锁之后,我国的华为、中兴等很多高科技公司都已经在这方面花费了很多的精力和财力。目前应该也是取得了一些成果和突破。
这条道路是很漫长的,我们要从一穷二白开始做起。不过我们中国人从来都不怕困难,只要我们不断的努力,那么终究有一天我们也能够打破技术的瓶颈,制造出我们自己的光刻机,甚至比外国人更先进。那时候我们就再也不会担心别人的技术封锁,再也不用承担高额的专利费用,也再也不用向别人低声下气,我们就是技术的持有者。从无到有,中华民族用智慧创造了太多奇迹,加油,我的国!
关于光刻机的制造,你有什么看法和建议,都可以在评论区留言讨论。
10月4日晚,芯片制造商中芯国际(00981.HK)在港交所公告确认,已受到美国出口管制。9日,中芯国际宣布称,基于部分自美国出口的设备、配件及原材料供货期会延长或有不准确性,公司正在评估该出口限制对本公司生产经营活动的影响,或造成重要不利影响。
此次,美国选择对中芯国际进行“进出口管制”的限制,也是为了对我国芯片制造领域进行压制。
目前全球半导体设备领域,美日两国垄断了全球80%左右的市场份额,其中美国占全球50%的市场,日本占30%,且在先进工艺上没有替代品,荷兰的ASML(镜头来自德国)基本受控于美国指令,因此相当于美国把光刻机这一块给控制了。
中芯国际是中国内地规模最大、技术最先进的集成电路芯片制造企业,提供 0.35℡☎联系:米到14纳米制程工艺设计和制造服务,其中最重要的就是光刻机。
作为芯片制造的核心设备——光刻机是关键核心技术。光刻机对机械精度要求非常高,光刻机中心的镜头由很多镜片串联组成,一块镜片要数万美元,镜片的抛光工作其技术积淀需要几十年甚至上百年,所以对于起步较晚的我国来说,发展自己的光刻机技术可谓一场攻坚战。
所以如果中芯国际被美国“限制”,其他芯片制造企业再“断供”的话,对于国内很多电子设备制造企业来说,将会彻底处于受制于人的被动状态。
所幸,目前我国已经在努力冲破其他国家的封锁和遏制,最好光刻机的公司每年也都会新增数百项的专利。
有报道称,而为了应对当前的不利形势,中芯国际在几个月前就从日本等国家采购了大批的关键设备和零部件,能够保证在一段时间内业务可以持续开展,避免出现断供。同时,中芯国际也已经计划在2020年内建设一条可生产40nm芯片的生产线,3年内完成28nm生产线的建设,以完全削弱对国外技术的依赖。
对于我国光刻机技术的发展,刚刚结束的“第三届半导体才智大会”上,新落成的中国第一家“芯片大学”——南京集成电路大学,也对我国未来芯片事业的发展才提供关键利好。这也是自美国对华为等公司进行芯片限制后的1年多时间以来,我国在 科技 领域及半导体领域的大进展。
如果说“限制”华为是美国政府对中国 科技 产业打压的开始,那么刚刚又宣布对中芯国际的“禁令”,或是美国“绞杀”中国半导体产业链的开始。因此,对于我国高 科技 企业而言,要尽快推进自主研发的能力,避免接下来更多中国半导体产业链企业被打击。
1、光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.
2、因为芯片远比这小得多,动不动就是nm的,这些最小也就是μm级别,那么到底是什么刻刀能做到这么精细。所以就想到了,用光线在芯片上刻,就是光刻机。
3、Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。形象的来说光刻机就是个“投影仪”,把我们想要的图案投影到芯片上。