关勃:全球半导体产业链自诞生至今共发生了3次较大规模的转移,分别是战后由美国到日本的转移;上世纪80年代后由美日到韩国、中国台湾地区的转移;以及2015年至今仍在进行的从全球至中国大陆的转移。
以日为鉴,当前我国光刻胶适逢机遇:
综合来看,国内光刻胶企业乘着半导体产业链国产化的大趋势,与国内晶圆厂开展紧密合作,逐步追赶和突破与国内IC制造工艺相匹配的光刻胶,绕开海外专利实现批量供应,为企业带来稳定的现金流,同时提前布局国内晶圆厂的下一代工艺,形成半导体工业正常的技术迭代节奏。
在这样的大背景之下,市场憧憬我国的光刻胶也可以弯道超车,股市中的光刻胶品种,除开头的公司, 江化℡☎联系:、广信材料、福晶 科技 也能迎难而上,填补国内空白。
6 月 4 日-《乘胜追击光刻胶低位精选名单》
(附精选组合名单)
近日,南大光电在互动平台表示,公司研发生产的 ArF 光刻胶已经走向客户测试阶段,其在 7nm 工艺上的应用,进一步证明国内的ArF 光刻胶技术取得了重要突破。
关于光刻胶,我们在前期的节目中也有所涉及,近期受益于相关利好消息持续走强,相关核心标的涨幅喜人,似有带领市场上攻的势头,持续性更是强于其它。
但是,错过了低位上车机会,接下来机会又该如何把握?
不得不说,我国在半导体技术上的新突破,进一步缩短我国与国外的差距,也是我国转向自主自控阶段的开始,半导体国产替代步伐加速。
从市场角度来看,光刻胶产业发展潜力巨大,尤其是国内市场。根据智研咨询数据显示,2019 年全球光刻胶市场规模达 90 亿美元,预计 2022 年将有望超过 100 亿美元。
从全球市场规模来看,中国光刻胶市场只占全球的 10%,发展空间巨大,本土光刻胶市场也迎来发展机遇。当前疫情影响全球供应链,本土沪硅产业大涨 800%,和硅片相辅相成的光刻胶应当具有上行空间;同时,中芯国际、长江存储等芯片代工厂投产也进入高峰期,未来持续的高需求也是发展的重要保障。
强力新材(300429)
公司是光刻胶光引发剂领域中的知名企业。目前光引发剂年产能超过 1300 吨,并且有 12000 吨新生产线正在建设中,是目前产能的 9 倍以上。
在 2019 年,公司 PCB 光刻胶光引发剂销量同比增 23%至 1187吨,LCD 光刻胶光引发剂实现销量 76 吨,同比增 4%,其他用途光引发剂销量 4726 吨,同比增 21%。
一季报股东人数大幅减少 14.8%,融资买入余额近一个月增加30%以上,华泰证券维持“增持”评级。
技术上来说,日线级别太极线趋势线呈现红色,股价回踩太极线趋势企稳,资金流入明显,后市有望延续上行波段。
广信材料(300537)
公司正在推进开发印刷电路板柔性基板用等用途的紫外光型正型光刻胶;公司于 2018 年 11 月与台湾广至新材料合作研发光刻胶项目,研发目标是 PCB 用光刻胶分辨率为 25μm,6 代线以下平面显示面板用光刻胶的分辨率为 3μm,半导体封装用光刻胶的分辨率为15μm。
第一批产品已经取得研发成果,并开始着手技术转移与第二批产品的研发工作。光刻胶的研发与销售拓展了公司的业务领域,丰富了公司的产品线,巩固龙头地位。光大证券维持“增持”评级。技术上来看;60 分钟放量突破蓄势平台,回抽平台企稳,整体趋势上行比较强势,后市有望延续上行一笔。
参考资料:
2020/04/28-华泰证券-强力新材-年报业绩℡☎联系:增,疫情致 Q1 业绩下滑
2020/05/12-光大证券-广信材料-新冠疫情拖累业绩,光刻胶项目稳步推进
本文由北京中和应泰财务顾问有限公司上海分公司 投资顾问 关勃(执业编号:A0150614050001)编辑整理。内容仅供教学参考,不构成投资建议。股市有风险,投资需谨慎。
光刻胶有成为光制扛蚀机是光刻成像的承载介质,可以利用化学反应原理讲光哥系统中经过滤波颜色后的光信息转化为能量,完成掩膜图形的复制。 有消息称,日本东北213地震使得其企业的光刻胶出现了供应告急的问题,而信越更是宣布了关闭厂区,要知道日本信越占据全球光刻胶市场的20%。而光刻胶又是半导体的关键材料,日本信越宣布关闭厂区,就意味着全球光刻胶出现了供不应求的情况,其所带来的连锁反应就是加剧了芯片急慌的问题。
有相关数据显示,2018年之中,全球半导体市场结构之中光刻胶的占比达到了5.24%,被称之为半导体的核心材料。在全球半导体光刻胶市场之中,日本企业可以说是一家独大的,随随便便就能够形成垄断的现象,其占比达到了80%。其中前面讲到过的信越以及住友化学和TOK等等都是光刻胶市场领域之中的巨头,可是日本此次突发地震,使得光刻胶市场1度面临供不应求的状况。
我们国家在光刻胶领域几乎是一片空白。不过,目前已经有很多中国企业正在不断的追求国产替代,在PCB光刻胶市场,这种国产化率已经达到了50%。 虽然只是门槛相对较低的市场,但好歹也算是一定的成就吧,而在LCD光刻胶市场之中,国产化已经达到了5%。在这种领域之内,其实我们还需要面临很大的挑战。而此次日本光刻胶出现告急的情况,给中国的企业带来了一定的机遇。
目前,我们国家已经涌现了很多的光刻胶领头企业,填补在这上面所遇见的空白,其中就包括晶瑞股份,南大光电,上海新阳等等。在南大光电的努力之下,企业发的ARF193纳米光刻胶,已经通过了客户使用认证,成为中国首只通过产品验证的国产ARF光刻胶,代表着在光刻胶领域之中,我们又向前一步。除了南大光电之外,晶瑞股份也传来了消息,其KrF光交已经进入了客户测试阶段。要知道,晶瑞股份曾经花费巨资达到1102.5万美元从sk海力士手中收购了阿斯买的光刻机设备。这种光科技能够研发出最高28纳米的光刻胶。对于晶锐股份的ARF光刻胶以及ARfi光刻胶有着一定的推动作用。
而上海信阳花费7.32亿元推动集成电路制造,其中ARF光刻胶与KrF光刻胶成为其公司项目的主要攻克方向。不管是南大光电还是晶锐股份,又或者是上海新阳,这些企业为中国在光刻胶领域上面的发展填上了一笔又一笔色彩,使得我们在这个领域之中不再是小白的状态。除了在光刻胶领域之中,我们在其他很多领域之中也都获得了一定的成就。相信在全国上下无数企业的努力之下,我们一定能够完成在半导体内各个领域之中的突破。虽然我们底子薄弱,但是我们有不服输的精神,尽管我们起步晚,但是我们有决心。我们不能够决定我们在全球领域内会拥有多大的地位,但是我们能够决定我们付出多少就会收获多少。
作为一个投资者,一定要有强大的学习能力,来接受各种知识,最近在A股市场上光刻胶概念火了,那么光刻胶到底是什么呢?这篇文章就跟大家聊聊这个话题。
光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶。
1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。
光刻胶可分为半导体用光刻胶、LCD用光刻胶、PCB用光刻胶等,其技术壁垒依次降低。相应地,PCB光刻胶是目前国产替代进度最快的,LCD光刻胶替代进度相对较快,半导体光刻胶目前国产技术较国外先进技术差距最大。
PCB光刻胶,技术含量较低。全球PCB光刻胶市场规模在20亿美元左右,中国市场规模占比达50%以上。随着PCB光刻胶外企东移和内资企业的不断发展,中国已成为全球最大的PCB光刻胶生产基地。
LCD光刻胶的全球供应集中在日本、韩国、中国台湾等地区,海外企业市占率超过90%。彩色滤光片所需的高分子颜料和颜料的分散技术主要集中在Ciba等日本颜料厂商手中,因此彩色光刻胶和黑色光刻胶的核心技术基本被日本和韩国企业垄断。
综合以上信息,其实光刻胶是一个造芯片绕不过去的产品,希望这篇文章能给大家带来帮助,感兴趣的投资者们一定要多多的了解学习!